广东粤港澳大湾区国家纳米科学技术创新研究院预算1700万采购化学机械研磨机（CMP）

  8月17日，广东粤港澳大湾区国家纳米科学技术创新研究院发布《广东粤港澳大湾区国家纳米科学技术创新研究院化学机械研磨机（CMP）采购项目单一来源采购公示》，拟采购单一来源的CMP设备，预算金额高达1700万元。

  8月17日，广东粤港澳大湾区国家纳米科学技术创新研究院发布《广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机（CMP）采购项目单一来源采购公示》，拟采购单一来源的CMP设备。

  项目名称：广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机（CMP）采购项目

  CMP过程是一个动态的微细工艺流程，通过非物理性腐蚀和机械力共同作用实现对待抛光面材料表面的平滑处理。在该过程中，抛光液中的化学组分与待抛光面材料发生反应，在待抛光材料表明产生一层很薄、结合力较弱的生成物;而抛光液中磨粒在压力和摩擦作用下对待抛光材料表明上进行微量去除。此外，抛光过程抛光液还通过在抛光区域形成流体膜以及带动磨粒在抛光区运动影响抛光过程。在高端TC-SAW器件的制备过程中，叉指电极的表面粗糙度、以及叉指电极的图案化，在后续的材料生长过程中，由于保型性，最终的覆盖层上表面不是一个平整的表面，会导致波的覆盖层表面的传播特性受一定的影响，所以，必须要对覆盖层的上表明上进行平坦化处理。另外，电极层、以及表面覆盖层的厚度也要精确的控制，以此来实现对于器件频率一致性的精确控制。CMP加工的过程中，主要关注的参数包含设备参数、研磨液参数、抛光垫参数、CMP对象薄膜参数等。CMP是一种集机械学、流体力学、材料化学、精细化工、控制软件等多领城最先进的技术于一体的设备，是集成电路制造设备中较为复杂和研制难度较大的设备之一。为完成本项目，急需采购符合有关技术指标的化学机械研磨机。

  化学机械抛光（CMP）是芯片制造的五大关键技术之一，其装备与工艺技术在国内一直处在空白。国内近年来也取得了较大的进步，如华海清科等公司只有8寸机， 6寸机需要定制，加价幅度较大（没明确），没有6寸铌酸锂/钽酸锂工艺经验。

  尽管中国大陆地区的CMP设备市场规模较大，但高端CMP设备均依旧依赖于进口，前三大厂家应材公司、荏原公司、东京精密。应用材料的CMP设备是8寸制程开始，6寸制程现阶段只有研磨头，不配备清洗功能，且没有SAW滤波器的经验。荏原（Ebara）公司的CMP设备，有6寸支撑，至今为止，还未在大陆的SAW滤波器厂家有过购买使用经验，国能销售和技术支持团队不能保证碎片率。东京精密的CMP设备在SAW滤波器行业具有广泛的应用，国外如村田、太阳诱电、RF360等高端滤波器厂家，都在使用其相关设备。

  TC-SAW器件对于CMP工艺的要求比较高，一直也是国内滤波器产业需要突破的技术难题，必须要求厂家具有相关的经验，且对设备具备了相关的改造经验。经详细调研，东京精密的CMP设备在SAW滤波器厂家具有广泛的应用，且能够很好的满足研发需求，所以，申请单一来源。

  （2）各专家对相关供应商因专利、专有技术等原因具有唯一性的具体论证意见，专家的姓名、工作单位和职称：

  专家4：姓名 严丽 工作单位 广东轻工职业技术学院 职称 高工 意见： 同意

  该项目采购设备之化学机械研磨机（CMP），经市场调查与研究，满足采购人技术需求的供应商只有一家，为满足采购人的科研需求，建议使用单一来源采购方式进行。

  2020年08月17日 至 2020年08月24日 （公示期限不可以少于5个工作日）